기존 14나노 1세대에 비해 성능 27% 개선·소비전력도 40% 절감
삼성전자는 17일 글로벌 반도체 업계 최초로 10나노 로직 공정 양산을 시작했다고 밝혔다.
삼성전자에 따르면 이번에 양산을 시작한 10나노 1세대 공정은 기존 14나노 1세대에 비해 성능을 27% 개선하는 한편 소비전력은 40% 절감했다. 웨이퍼당 칩 생산량은 약 30% 향상됐다는 평가를 받고 있다.
삼성전자는 “10나노 공정 양산을 위해서는 14나노 공정보다 훨씬 정교하고 미세한 회로를 그려 넣는 패터닝 작업이 필요하다”고 설명했다.
이에 삼성전자는 기본 장비를 활용해 패터닝 과정을 과정을 세 번 반복하는 트리플 패터닝 기술을 적용해 미세공정의 한계를 극복하는 한편 설계 유연성을 확보했다.
삼성전자는 10나노 1세대(10LPE) 공정 양산을 시작으로 성능을 향상시킨 2세대(10LPP) 공정을 2017년 양산을 목표로 개발 중이다.
또 2세대 이후에도 지속적인 성능개선과 파생공정 확대를 통해 10나노 공정을 장기간 활용할 계획이다.
이를 위해 삼성전자는 고객 및 파트너사와의 협업을 통해 10나노 공정의 디자인 설계 툴을 검증하고, 고객들이 제품을 개발하는 데 도움을 주는 제품 레벨 디자인 키트와 IP 디자인 키트를 제공하는 등 파운드리 에코시스템을 확대해 나가고 있다.
한편 삼성전자의 10나노 로직 공정이 적용된 제품은 내년 초 출시를 앞둔 IT 신제품을 시작으로 다양한 고객과 제품으로 확대될 예정이다.
[신아일보] 박정식 기자 jspark@shinailbo.co.kr
저작권자 © 신아일보 무단전재 및 재배포 금지
