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삼성전자, 10나노 반도체 양산… ‘세계 최초’
삼성전자, 10나노 반도체 양산… ‘세계 최초’
  • 박정식 기자
  • 승인 2016.10.17 16:54
  • 댓글 0
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기존 14나노 1세대에 비해 성능 27% 개선·소비전력도 40% 절감

▲ (자료사진=연합뉴스)
삼성전자가 세계 최초로 10나노(나노미터·nm·10억분의 1m) 반도체를 양산한다.

삼성전자는 17일 글로벌 반도체 업계 최초로 10나노 로직 공정 양산을 시작했다고 밝혔다.

삼성전자에 따르면 이번에 양산을 시작한 10나노 1세대 공정은 기존 14나노 1세대에 비해 성능을 27% 개선하는 한편 소비전력은 40% 절감했다. 웨이퍼당 칩 생산량은 약 30% 향상됐다는 평가를 받고 있다.

삼성전자는 “10나노 공정 양산을 위해서는 14나노 공정보다 훨씬 정교하고 미세한 회로를 그려 넣는 패터닝 작업이 필요하다”고 설명했다.

이에 삼성전자는 기본 장비를 활용해 패터닝 과정을 과정을 세 번 반복하는 트리플 패터닝 기술을 적용해 미세공정의 한계를 극복하는 한편 설계 유연성을 확보했다.

삼성전자는 10나노 1세대(10LPE) 공정 양산을 시작으로 성능을 향상시킨 2세대(10LPP) 공정을 2017년 양산을 목표로 개발 중이다.

또 2세대 이후에도 지속적인 성능개선과 파생공정 확대를 통해 10나노 공정을 장기간 활용할 계획이다.

이를 위해 삼성전자는 고객 및 파트너사와의 협업을 통해 10나노 공정의 디자인 설계 툴을 검증하고, 고객들이 제품을 개발하는 데 도움을 주는 제품 레벨 디자인 키트와 IP 디자인 키트를 제공하는 등 파운드리 에코시스템을 확대해 나가고 있다.

한편 삼성전자의 10나노 로직 공정이 적용된 제품은 내년 초 출시를 앞둔 IT 신제품을 시작으로 다양한 고객과 제품으로 확대될 예정이다.

[신아일보] 박정식 기자 jspark@shinailbo.co.kr



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