포스텍 나노융합기술원이 과학기술정보통신부고 공모한 소재·부품·장비 분야 국가연구시설로 지정됐다.
나노융합기술원은 지난 11일 최기영 과기정통부 장관으로부터 반도체 분야 지원시설 지정서를 받았다.
나노융합기술원은 차세대 반도체·디스플레이 분야 첨단 연구장비와 지원역량을 갖추고 지속적으로 산·학·연을 연계, 지원해 온 성과를 인정받았다.
앞으로 나노융합기술원은 소재·부품·장비 연구개발 시험대 역할을 하게 된다.
정부는 지난 8월 28일 일본 수출 규제를 계기로 산·학·연 연구개발 역량을 총동원하기 위해 '3N+R' 구축 계획을 발표했다.
3N은 국가연구시설(N-Facility), 국가연구실(N-LAB), 국가연구협의체(N-TEAM)다. R은 연구개발특구 등 지역(Region)의 인프라와 혁신역량이다.
1차 지정된 기관은 반도체, 디스플레이 분야 긴급 공정지원이 가능한 나노팹시설 6곳으로, 과기정통부는 지정 대상 범위를 확대해 나갈 계획이다.
나노융합기술원은 2004년 산업부의 나노기술집적센터 구축사업 나노소재 재료 분야 거점 기관으로 설립됐다.
이후 반도체·디스플레이, 나노융합소재 분야 장비·시설을 갖추고 연구개발, 공정지원, 측정분석, 기술사업화, 전문인력 양성 등을 지원해 왔다.
특히 4차 산업혁명의 핵심 부품인 전력반도체, OLED 디스플레이 등에 집중해 첨단기업의 기술사업화, 국제 공동연구, 공유형 제조 인프라 구축 등을 수행해 오고 있다.
조무현 포스텍 나노융합기술원 원장은 “나노융합기술원의 역량과 성과가 인정되어 소재․부품․장비 분야 국가연구시설로 지정된 것을 기쁘게 생각한다“면서 “앞으로 시스템반도체 분야 상용화의 산실이 될 수 있도록 최선을 다하고 필요한 지원을 아끼지 않겠다“고 말했다.
[신아일보] 포항/배달형 기자
