삼성전자가 중국 시안 반도체 사업장에 제2 라인을 신규로 건설한다.
28일 삼성전자는 이날 중국 산시성 시안시에서 김기남 사장과 후허핑 산시성 성위서기, 먀오웨이 공신부장, 류궈중 산시성장, 노영민 주중 한국대사 등이 참석해 시안 반도체 사업장 2기 라인 기공식을 가졌다.
삼성전자는 시안 반도체 2기 라인을 통해 늘어가고 있는 3D V낸드 수요에 대응할 계획이다.
또 이번 투자는 낸드플래시 최대 수요처이자 글로벌 모바일, IT업체들의 생산기지가 집중돼 있는 중국시장에서의 제조 경쟁력 강화와 원활한 대응으로 이어지길 기대한다.
삼성전자는 지난 2017년 8월 시안 반도체 2기 라인 투자를 위해 산시성 정부와 MOU를 체결해 향후 3년간 70억달러를 투자하기로 했다.
김 사장은 이날 기념사를 통해 "시안 2기 라인의 성공적 운영으로 최고의 메모리 반도체 제품 생산과 함께 차별화된 솔루션을 고객에게 제공 하겠다"고 말했다.
삼성전자 시안 반도체 사업장은 2012년 1기 기공식을 시작으로 2013년 전자연구소 설립, 2014년 1세대 V-NAND 양산, 2015년 후공정 라인 완공, 2018년 2기 증설까지 꾸준한 투자를 추진해 나가고 있다.
[신아일보] 김성화 기자 shkim@shinailbo.co.kr
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